Unreine Haut durch Mund-Nasen-Schutz – Richtige Pflege beugt sogenannter Maskenakne vor
Die Maske ist in den vergangenen Wochen und Monaten zu unserem ständigen Begleiter geworden. Ob im Bus, in der Arbeit oder beim Einkaufen – die Maske ist immer dabei. Das ständige Tragen eines Mund-Nasen-Schutzes verursacht bei vielen Menschen aber Hautunreinheiten, die sogenannte Maskenakne.
Um vor einer Infektion mit dem Coronavirus zu schützen, müssen beispielsweise FFP2-Masken eng anliegen, damit seitlich keine Luft nach außen dringt. Dies sorge allerdings für ein feuchtes Klima unterhalb des Mund-Nasen-Schutzes, erklärt Apothekerin Dr. Doris Unterreitmeier. Die Folge davon seien Pickelchen sowie ekzemartige und trockene Hautstellen. Mit den richtigen Tipps können Sie Ihre Hautprobleme aber wieder in den Griff bekommen.
Richter Umgang mit Mund-Nasen-Schutz wichtig
Bereits der richtige Umgang mit der Mund-Nasen-Bedeckung könne helfen, Hautunreinheiten zu vermeiden. Dr. Unterreitmeier empfiehlt daher einen sorgsamen Umgang mit der Maske. Alleine schon das Knautschen oder Verdrehen der Maske könne dazu führen, dass innen die Schichten auseinanderreißen, erklärt die Expertin. Dadurch werde die Filter-Leistung der Maske beeinträchtigt. Außerdem solle man darauf achten, die Maske regelmäßig zu wechseln, damit sie nicht durchnässt.
Hautcremes nicht zu dick auftragen
Aber auch die richtige Hautpflege könne helfen, Unreinheiten vorzubeugen. Bevor die Maske angelegt werde, sollte das Gesicht mit einer pH-neutralen Seife ohne Duftstoffe gereinigt werden. Auch andere Pflegeprodukte, wie beispielsweise eine gute Feuchtigkeitscreme, seien erlaubt, sagt Dr. Unterreitmeier. Beim Auftragen solle allerdings darauf geachtet werden, die Produkte nicht zu dick aufzutragen. Das könne dazu führen, dass die Poren verkleben und die Haut somit schlechter Luft bekommt, so die Erklärung der Apothekerin. Wichtig sei auch, alle eineinhalb Stunden mindestens eine fünfzehnminütige Maskenpause einzulegen. So könne sich Ihre Haut regenerieren und abtrocknen.
(lw)